日本日立 光譜儀

由于行業(yè)法規(guī)日益嚴格，供應鏈變得復雜以及更多地使 用廢料作為基礎材料，因此鑄造廠和金屬制造商必須將 雜質(zhì)和痕量元素控制在*低ppm范圍內(nèi)。在過去，這一 級別的OES對許多企業(yè)而言是遙不可及。日立分析儀器 推出的新型OE750可改變這一現(xiàn)狀。

日立的這款全新OES可用于分析所有主要合金元素，并 識別金屬中含量極低的雜質(zhì)、痕量元素和關心元素，如 鋼中的氮。 OE750的測量速度快、可靠性高且運營成本 低，可進行高性價比的日常分析和全面質(zhì)量控制，其性 能可與更大、更貴的光譜儀媲美。

德國制造的OE750的設計離不開日立45余年的金屬行業(yè) 經(jīng)驗的支撐。從測量鋼鐵中的氮到鋁中的磷 ，這款分析 儀可提供滿足當今嚴格規(guī)范所需的全面金屬分析。 日立分析儀器的OE750是可進行快速、全面的金屬質(zhì)量 分析的經(jīng)濟適用儀器，可滿足一切需求。

日本日立 光譜儀

我們?nèi)绾翁岣?性價比

這*取決于技術。

OE750采用*先進的半導體探測器和新型光學概念（四項*利 正在申請中）。這使得日立的OES光譜儀在同類產(chǎn)品中具有* 高光學分辨率，因此您不必在高性能和低成本之間作出選擇。

動態(tài)CMOS檢測器的創(chuàng)新使用以及將光學系統(tǒng)直接接合至火花 臺可確保*佳照度以及119nm至766nm的波長范圍。這包括 從氫到鈾的所有元素，用于全元素分析*。這種性能通常只適 用于*端質(zhì)量控制儀器，但OE750可通過創(chuàng)新、低氬和低功耗 降低成本。

OE750在元素選擇上具有大大的靈活性，能使操作適合未來需 要。

*大可靠性和*短停 機時間

| OE750旨在保持運行不間斷。其 維護時間被縮至小；例如，只 需每隔幾千次測量*清理一次火花 臺，標準化間隔通常是幾周甚至幾 個月。由此可實現(xiàn)每周節(jié)省2個小 時。

| 此外，新開發(fā)的數(shù)字火花光源將提 供更好的可靠性以及每個元素的* 佳能量激發(fā)脈沖，從而提高分析的 精密度。